半岛彩票据《南华早报》报道，中国计划采用一种创新的方法，利用粒子加速器制造芯片，有可能让中国成为先进芯片领域的全球领导者。《南华早报》称，这种方法旨在避开传统光刻机的限制和美国对EUV技术的制裁，可能会重塑半导体行业的格局。
由清华大学领导的中国研究小组正在利用粒子加速器开发一种独特的激光源。他们的目标是避开传统光刻机的限制，光刻机在微芯片生产中是至关重要的。研发中的粒子加速器大约有两个篮球场那么大，周长在100-150米之间，将为芯片制造提供高质量的光源。
斯坦福大学的赵午教授介绍了其基础技术——“稳态微聚束”SSMB。SSMB捕获带电粒子在加速过程中释放的能量，将其转化为连续的纯EUV光源。与目前主流的ASML EUV方法相比，SSMB具有更高的功率和效率，有可能降低芯片生产成本。
团队成员潘志龙教授在2022年1月的一次学术研讨会上说:“清华大学已经设计出了一个SSMB -EUV光源，设计的EUV功率高于1kW，一些关键技术已经准备就绪。”
这一雄心勃勃的项目与专注于芯片制造机器小型化的阿斯麦（ASML）等公司的技术路线大相径庭。相反，中国的愿景是建立一个巨大的光刻工厂，里面有几台光刻机，都围绕着一个加速器。该设计旨在实现具有竞争力的制造工艺(如2nm及以上)，这些工艺将用于制造高性能芯片，而无需使用传统的极紫外(EUV)光刻机。
“作为一种全新的光源，该技术的实验验证已经实现。但有必要建立一个在EUV波段工作的固体SSMB光源研究设备。”清华大学的项目负责人唐传祥教授说。
“然后，我们可以(利用该设备)培养科学和工业用户，并完善SSMB技术。”
据报道，清华大学的团队在这一领域取得了重大进展；报道称，他们已经成功地试用了这项技术，现在正在为该项目的建设寻找地点。他们的成功可能为中国绕过未来可能受到的制裁铺平道路，让中国成为半导体强国。
然而，实现基于SSMB的EUV光刻机的旅程仍然漫长而充满挑战。唐传祥教授是该项目的负责人，他强调需要不断创新和跨行业合作来开发一个功能齐全的光刻系统。
“在我们独立开发EUV光刻机之前还有很长的路要走，但基于SSMB的EUV光源为我们提供了一种替代受制裁技术的选择。”唐教授说：“它需要基于SSMB EUV光源的持续技术创新，并与上下业合作，以建设可用的光刻系统。”
